服務(wù)熱線
0755-83044319
發(fā)布時間:2022-03-17作者來源:薩科微瀏覽:3377
目前GaN器件有三分之二應(yīng)用于[敏感詞]電子,如[敏感詞]通訊、電子、干擾、雷達(dá)等領(lǐng)域;在民用領(lǐng)域,氮化鎵主要被應(yīng)用于通訊基站、功率器件等領(lǐng)域。
未來五年,基于第三代半導(dǎo)體材料的電子器件將廣泛應(yīng)用于5G基站、新能源汽車、特高壓、數(shù)據(jù)中心等場景。
射頻氮化鎵技術(shù)
是5G的絕配
氮化鎵的帶隙為3.4eV,而現(xiàn)今最常用的半導(dǎo)體材料硅的帶隙為1.12eV,因此氮化鎵在高功率和高速元件中具有比硅元件更好的性能。
▲不同材料體系射頻功率晶體管對比圖
▲GaNHEMT器件結(jié)構(gòu) ▌輸出功率高,附加效率高
GaN材料體系易于形成如AlGaN/GaN等異質(zhì)結(jié)材料系統(tǒng),在異質(zhì)結(jié)界面上存在極強(qiáng)的自發(fā)極化與壓電極化效應(yīng),誘導(dǎo)產(chǎn)生的二維電子氣濃度很高,且具有高達(dá)2000cm2/V·s的電子遷移率,因此基于GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)的晶體管又被稱為高電子遷移率晶體管,即GaNHEMT(HighElectronMobilityTransistor)。同時GaN材料的擊穿場強(qiáng)高,比Si和GaAs高出數(shù)倍;GaNHEMT器件所采用的SiC半絕緣襯底熱導(dǎo)率優(yōu)于金屬銅,其良好的散熱特性有利于高功率工作;GaNHEMT還具有低寄生電容及高擊穿電壓的特性,非常適合實現(xiàn)高效率功效放大器(PA,PowerAmplifier)。
▌長脈寬,高占空比GaNHEMT通常外延生長于寬禁帶材料SiC半絕緣襯底上,適當(dāng)控制GaNHEMT的功率密度可輕松實現(xiàn)長脈寬,高占空比,在大功率連續(xù)波工作均可實現(xiàn)。
▌工作頻帶寬,頻率高GaNHEMT的截止頻率直接決定了其應(yīng)用的工作頻率和瞬時帶寬,它隨溝道的摻雜濃度增加而上升,隨溝道的厚度和柵長的增加而下降。由于Si半導(dǎo)體材料禁帶能量的限制,其截止頻率較低,因此Si半導(dǎo)體功率器件的工作頻率只能在S波段以下工作。GaAs器件具有比其它器件好很多的載流子遷移率,截止頻率很高,但受擊穿場強(qiáng)的限制,工作電壓低,導(dǎo)致器件輸出功率小,GaNHEMT具有寬的禁帶能量、高擊穿場強(qiáng)和高飽和電子漂移速度的特性,補償了這一不足而獲得好的高頻性能,GaNHEMT可以工作在更高頻率,同時能有高輸出功率。另外,GaNHEMT的固有特性使得其輸入輸出阻抗較高,電路的寬帶阻抗匹配更加容易實現(xiàn),使得GaNHEMT適合寬帶應(yīng)用。
▲不同材料體系射頻器件功率-頻率工作區(qū)間 ▌抗輻照能力強(qiáng),環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)
GaN是極穩(wěn)定的化合物,具有強(qiáng)的原子鍵、高的熱導(dǎo)率、在Ⅲ-Ⅴ族化合物中電離度是[敏感詞]的、化學(xué)穩(wěn)定性好,使得GaN器件比Si和GaAs有更強(qiáng)抗輻照能力,同時GaN又是高熔點材料,熱傳導(dǎo)率高,GaN功率器件通常采用熱傳導(dǎo)率更優(yōu)的SiC做襯底,因此GaN功率器件具有較高的結(jié)溫,能在高溫環(huán)境下工作。
參數(shù) |
Si |
GaAs |
GaN |
禁帶寬度(eV) |
1.1 |
1.4 |
3.4 |
介電常數(shù) |
11.8 |
12.8 |
9.0 |
擊穿場強(qiáng)(106V/cm) |
0.6 |
0.7 |
3.5 |
熱傳導(dǎo)率(W/cm.K) |
1.3 |
0.5 |
1.3 |
電子遷移率(cm2/V.s) |
1450 |
8500 |
900 |
飽和電子速率(107cm/s) |
1.0 |
2.0 |
2.7 |
GaN射頻器件
在各類應(yīng)用中的性能優(yōu)勢
移動通信基站是GaN射頻器件的主要應(yīng)用之一。相比于4G,5G的通信頻段往高頻波段遷移。目前我國4G網(wǎng)絡(luò)通信頻段以2.6GHz為主,2017年工信部發(fā)布了5G系統(tǒng)在3-5GHz頻段(中頻段)內(nèi)的頻率使用規(guī)劃,后期會逐步增補6GHz以上的高頻段作為容量覆蓋。
相較SiLDMOS和GaAs,在基站端GaN射頻器件更能有效滿足5G的高功率、高通信頻段和高效率等要求。盡管SiLDMOS可以輸出大功率,但在頻率方面,其僅在不超過3.5GHz頻譜范圍內(nèi)有效,而GaAs功率放大器雖然頻率可以做大,但在輸出功率方面又顯著遜色于GaN器件,因此,在滿足高功率、高頻率、大帶寬的5G通信方面,GaN功率放大器是基站端的[敏感詞]選擇。
▌[敏感詞]應(yīng)用——氮化鎵在雷達(dá)和電子戰(zhàn)系統(tǒng)中的優(yōu)勢射頻氮化鎵器件現(xiàn)在[敏感詞]的市場是[敏感詞]與航天領(lǐng)域。大約十五年前,在美國的資助下,研究人員開始投入到射頻氮化鎵技術(shù)的研究,這才催生了現(xiàn)在的射頻氮化鎵器件市場。
根據(jù)StrategyAnalytics的統(tǒng)計,航天應(yīng)用占了射頻氮化鎵總市場規(guī)模的40%,雷達(dá)和電子戰(zhàn)系統(tǒng)是射頻氮化鎵的[敏感詞]應(yīng)用市場。
2017年3月,雷神公司宣布其愛國者導(dǎo)彈防御系統(tǒng)采用了[敏感詞]的基于氮化鎵技術(shù)的天線系統(tǒng)。愛國者導(dǎo)彈防御系統(tǒng)是一種陸基導(dǎo)彈防御系統(tǒng),可攔截彈道導(dǎo)彈、無人機(jī)和飛機(jī)。
▲愛國者導(dǎo)彈舊愛國者系統(tǒng)采用的雷達(dá)技術(shù)被稱為被動電子掃描陣列,新雷達(dá)系統(tǒng)改為主動電子掃描陣列(AESA),主動電子掃描陣列將提供給愛國者系統(tǒng)360度的雷達(dá)能力。
“雷神相信,升級到基于氮化鎵技術(shù)的主動電子掃描陣列雷達(dá),可以使愛國者系統(tǒng)保持對新型進(jìn)攻[敏感詞]優(yōu)勢。”雷神空中和導(dǎo)彈綜合防御業(yè)務(wù)發(fā)展副總裁TimGlaeser說道。
主動電子掃描陣列雷達(dá)是基于相控陣技術(shù),相控陣設(shè)備包含一組可以單獨控制的天線,利用波束成形技術(shù),可以讓這組天線轉(zhuǎn)向不同的方向。
值得注意的是,這些技術(shù)正在從軍用轉(zhuǎn)向商用。例如,主動電子掃描陣列和相控陣技術(shù)已經(jīng)被用于60GHz毫米波Wi-Fi技術(shù)、汽車?yán)走_(dá)系統(tǒng)和無線基站等。此外,5G中將廣泛采用相控陣技術(shù)。
同時,氮化鎵工藝制造的功率放大器也已經(jīng)用于點對點通信的[敏感詞]持式無線電中。
▌商業(yè)應(yīng)用——氮化鎵在電源管理的性能優(yōu)勢
傳導(dǎo)損耗小,能效高。氮化鎵晶體管的導(dǎo)通電阻(Rds,on)是傳統(tǒng)硅元件的一半,在相同輸出電流下?lián)p耗更小,能效更高。低損耗同時意味著低發(fā)熱,從而可以有效地簡化散熱元件和熱管理系統(tǒng)設(shè)計;
氮化鎵晶體管內(nèi)不含體二極管,沒有反向恢復(fù)損耗;
氮化鎵晶體管的輸入電荷非常小,幾乎沒有閘極驅(qū)動損耗;
氮化鎵功率元件可以支援更高的開關(guān)頻率(氮化鎵:1MHz,硅:<100KHz),從而減小被動元件的體積;
氮化鎵元件的功率密度很大,能夠達(dá)到硅基LDMOS的四倍以上,在減小體積的同時可以增加輸出功率。
英飛凌(Infineon)大中華區(qū)電源管理及多元電子事業(yè)處資深營銷經(jīng)理陳清源對同為第三代半導(dǎo)體材料的氮化鎵和SiC的優(yōu)缺點進(jìn)行了對比,二者都具有快速開關(guān)性能,有助于提高效率,但是氮化鎵比硅的損耗低。
在應(yīng)用場景下進(jìn)一步對比可以發(fā)現(xiàn),在高功率和更高壓應(yīng)用場景下,SiC體現(xiàn)出很好的成熟度和性價比;而在100V~600V的低中壓應(yīng)用中,氮化鎵就能夠發(fā)揮出更高的性價比。就結(jié)構(gòu)來看,氮化鎵是橫向結(jié)構(gòu)(比如JFET),很難達(dá)到SiCMOSFET(垂直結(jié)構(gòu))的高電壓能力。
氮化鎵對于本征是常關(guān)的開關(guān)更具吸引力,它代表著迄今所用的全部硅晶體管的后續(xù)技術(shù)。此外,從整體系統(tǒng)的角度考慮,氮化鎵的優(yōu)勢在于能夠使拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)變得更加緊湊。
英飛凌研發(fā)的CoolGaN系列產(chǎn)品是一種氮化鎵增強(qiáng)模式高電子遷移率晶體管(E-HEMT),非常適合高壓下執(zhí)行更高頻率的開關(guān),可以做到設(shè)計輕薄、功率密度進(jìn)一步提高,從而使轉(zhuǎn)換效率有更大的提升,降低整個系統(tǒng)的成本。
安森美半導(dǎo)體(ONSemiconductor)戰(zhàn)略營銷總監(jiān)YongAng進(jìn)一步解釋,氮化鎵元件相比硅元件的寄生電容低,因而可以降低門極電荷Qg相關(guān)的開關(guān)損耗,使開關(guān)頻率提高到幾百kHz至MHz范圍,而不降低能效。
與硅功率元件不同,氮化鎵因為沒有體二極管,在鋁鎵氮(AlGaN)/氮化鎵邊界表面的二維電子氣(2DEG)可以反向傳導(dǎo)電流,但沒有反向恢復(fù)電荷QRR,非常適合硬開關(guān)應(yīng)用。
由于氮化鎵對過電壓的敏感性和相對于硅非常有限的雪崩能力,特別適合半橋拓?fù)洌渲新┰措妷恒Q位元到軌道電壓。氮化鎵在諧振LLC、主動鉗位反馳,以及硬開關(guān)圖騰柱PFC等零電壓開關(guān)(ZVS)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)中具有很大的吸引力。
▲不同應(yīng)用領(lǐng)域主流射頻器件技術(shù)路線演進(jìn)全球 GaN射頻器件
產(chǎn)業(yè)鏈競爭格局
目前,射頻器件的主要市場如下:手機(jī)和通訊模塊市場,約占80%;WIFI路由器市場,約占9%;通訊基站市場,約占9%;NB-IoT市場,約占2%。
GaN 微波射頻器件產(chǎn)品推出速度明顯加快。目前微波射頻領(lǐng)域雖然備受關(guān)注,但是由于技術(shù)水平較高,專利壁壘過大,因此這個領(lǐng)域的公司相比較電力電子領(lǐng)域和光電子領(lǐng)域并不算很多,但多數(shù)都具有較強(qiáng)的科研實力和市場運作能力。GaN 微波射頻器件的商業(yè)化供應(yīng)發(fā)展迅速。
Qorvo 產(chǎn)品工作頻率范圍[敏感詞],Skyworks 產(chǎn)品工作頻率較小。Qorvo、CREE、MACOM 73%的產(chǎn)品輸出功率集中在 10W~100W 之間,[敏感詞]功率達(dá)到 1500W(工作頻率在 1.0-1.1GHz,由 Qorvo 生產(chǎn)),采用的技術(shù)主要是 GaN/SiC GaN 路線。
此外,部分企業(yè)提供 GaN 射頻模組產(chǎn)品,目前有 4家企業(yè)對外提供 GaN 射頻放大器的銷售,其中 Qorvo 產(chǎn)品工作頻率范圍[敏感詞],[敏感詞]工作頻率可達(dá)到 31GHz。Skyworks 產(chǎn)品工作頻率較小,主要集中在 0.05-1.218GHz 之間。
Qorvo 射頻放大器的產(chǎn)品類別最多。在我國工信部公布的 2 個 5G 工作頻段(3.3-3.6GHz、4.8-5GHz,)內(nèi),Qorvo 公司推出的射頻放大器的產(chǎn)品類別最多,[敏感詞]功率分別高達(dá) 100W 和 80W(1 月份 Qorvo 在 4.8-5GHz 的產(chǎn)品[敏感詞]功率為 60W),ADI 在 4.8-5GHz 的產(chǎn)品[敏感詞]功率提高到 50W(之前產(chǎn)品的[敏感詞]功率不到 40W),其他產(chǎn)品的功率大部分在 50W 以下。
▌大陸 GaN射頻器件產(chǎn)業(yè)鏈重點公司及產(chǎn)品進(jìn)展
歐美國家出于對我國技術(shù)發(fā)展速度的擔(dān)憂及遏制我國新材料技術(shù)的發(fā)展想法,在第三代半導(dǎo)體材料方面,對我國進(jìn)行幾乎全面技術(shù)封鎖和材料封鎖。
在此情況下,我國科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)單位立足自主創(chuàng)新,目前在 GaN 微波射頻領(lǐng)域已取得顯著成效,在領(lǐng)域和民用通信領(lǐng)域兩個領(lǐng)域進(jìn)行突破,打造了中電科 13 所、中電科 55 所、中興通信、大唐移動等重點企業(yè)以及中國移動、中國聯(lián)通等大客戶。
蘇州能訊推出了頻率高達(dá) 6GHz、工作電壓 48V、設(shè)計功率從 10W-320W的射頻功率晶體管。
在移動通信方面,蘇州能訊已經(jīng)可以提供適合 LTE、4G、5G 等移動通信應(yīng)用的高效率和高增益的射頻功放管,工作頻率涵蓋1.8-3.8GHz,工作電壓 48V,設(shè)計功率從 130W-390W,平均功率為 16W-55W。
免責(zé)聲明:本文轉(zhuǎn)載自“GaN世界”,本文僅代表作者個人觀點,不代表薩科微及行業(yè)觀點,只為轉(zhuǎn)載與分享,支持保護(hù)知識產(chǎn)權(quán),轉(zhuǎn)載請注明原出處及作者,如有侵權(quán)請聯(lián)系我們刪除。
友情鏈接:站點地圖 薩科微官方微博 立創(chuàng)商城-薩科微專賣 金航標(biāo)官網(wǎng) 金航標(biāo)英文站
Copyright ?2015-2024 深圳薩科微半導(dǎo)體有限公司 版權(quán)所有 粵ICP備20017602號-1